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減少鈾氫化物離子干擾并實(shí)現(xiàn)鈾236同位素分析

更新時(shí)間:2023-09-21       點(diǎn)擊次數(shù):2448

         前言

鈾 236 是一種可長(zhǎng)期存在的放射性同位素,主要由天然存在的痕量同位素 235U (豐度 0.72%)通過(guò)熱中子俘獲形成。236U 也可能在鈾濃縮過(guò)程中產(chǎn)生, 是核反應(yīng)堆中濃縮鈾燃料消耗時(shí)產(chǎn)生的廢棄物。236U/238U 同位素比可用作追蹤濃縮鈾燃料、乏核燃料和核廢料的意外泄漏,并考察核技術(shù)對(duì)環(huán)境 及人類(lèi)健康影響的一種靈敏的方法。因此,儀器設(shè)備在準(zhǔn)確分析234/235/238以及其他地球化學(xué)沉積元素的同時(shí),能夠?qū)崿F(xiàn)快速對(duì)10-10水平的 236U/238U 同位素比進(jìn)行分析。

 

1.研究的問(wèn)題

當(dāng)前ICP-Single Quad-MS 單四極桿質(zhì)譜通常被廣泛用于地球化學(xué)沉積物中多元素分析,但分析236U的主要難題在于無(wú)法去除氫化物離子 235UH+  對(duì) 236U+ 的干擾,以及 235U+ 和 238U+ 峰拖尾對(duì) m/z 236 處的影響,特別是某些經(jīng)過(guò)濃縮的樣品基體中往往有高含量的235U會(huì)進(jìn)一步加大上述 質(zhì)譜干擾。

 

2.單四極桿質(zhì)譜難以解決的干擾

對(duì)于氫化物離子 235UH+ 對(duì) 236U+ 的干擾,可以通過(guò)使用O2反應(yīng)池,將U+ 轉(zhuǎn)化為UOO+來(lái)分析測(cè)定。ICP-Triple Quad- MS 三重四極桿質(zhì)譜,在反 應(yīng)池前的第一組四極桿(Q1)控制某一個(gè)質(zhì)量數(shù)的離子進(jìn)入四極桿,從而實(shí)現(xiàn)同位素子離子間不會(huì)產(chǎn)生疊加。而單四級(jí)桿質(zhì)譜無(wú)法在O2反應(yīng) 池模式下區(qū)分235U16O17O+ 和236U16O16O+。

 

3.干擾來(lái)源原因解析

對(duì)于峰拖尾,單四極桿質(zhì)譜的豐度靈敏度通常在10-6到10-7 ,高基體元素帶來(lái)的高強(qiáng)度峰拖尾將對(duì)相鄰兩側(cè)峰產(chǎn)生重疊信號(hào)。而三重四極桿質(zhì)譜 ICP-QQQ-MS可,使用了兩個(gè)分辨率<1amu的四極桿質(zhì)量分析器(Q1和Q3),通過(guò)二次篩選有效提高豐度靈敏度,MS/MS模式的豐度靈敏度= Q1的豐度靈敏度* Q3的豐度靈敏度=10-12到10-14。高高度峰拖尾對(duì)相鄰質(zhì)量數(shù)的貢獻(xiàn)可以得到有效緩解。

 

4.采用三重四極桿質(zhì)譜通過(guò)測(cè)定 UO2+ 子離子減少鈾氫化物離子干擾

采用LabTech 5000 ICP-QQQ-MS 分析238U溶液,通過(guò)O2反應(yīng)池的MS/MS模式,提高了豐度靈敏度解決峰拖尾,將U+轉(zhuǎn)化為UOO+處測(cè)定從而去除 UH+的質(zhì)譜干擾。( 235U/238U 的豐度比值為 7 ×10-3,以238UH+對(duì)239M+的貢獻(xiàn)為測(cè)試實(shí)例,說(shuō)明ICP-QQQ-MS 去除 235UH 對(duì) 236U 的干擾的 方法,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)10-10的 236U/238U 的測(cè)定。)

通過(guò)MS/MS模式 = (238→238)、(238→254) 和 (238 →270)  的三個(gè)質(zhì)量對(duì)來(lái)測(cè)定 238U+、238U16O+ 和 238U16O16O+  的信號(hào),如圖所示:

img1 

 

5.采用三重四極桿質(zhì)譜實(shí)現(xiàn)鈾236同位素分析

在形成UOO+最佳的 O2 反應(yīng)池條件,采用MS/MS模式, 引入100ppb 238U 溶液,同時(shí)考察238UH+/238U+、238UOH+/238UO+ 和 238UO2H+/  238UO2+ ,如圖所示:

img2 

 

結(jié)論

結(jié)果表明, LabTech 5000 ICP-QQQ-MS在 MS/MS 模式下以 O2 作為反應(yīng)池氣體運(yùn)行,可成功減少 235UH+ 對(duì) 236U+ 的干擾,從而實(shí)現(xiàn)236U/238U 的測(cè) 定,適用于 236U/238U 的對(duì)10-10同位素比快速痕量分析,是能夠?qū)崿F(xiàn)234U/235U/236U/238U同位素比值的快速痕量分析的可靠手段。5000 ICP-QQQMS 還可以搭配膜去溶裝置,從而分析236U豐度更低的樣品中的236U/238U。

 

LabMS 5000 電感耦合等離子體串聯(lián)質(zhì)譜儀(ICP-MS/MS)

 

img3 

l精準(zhǔn):MS/MS模式實(shí)現(xiàn)受控且可靠的干擾去除,精準(zhǔn)去除質(zhì)量干擾離子,從而獲得更低的檢測(cè)限和準(zhǔn)確的超痕量分析結(jié)果。

l穩(wěn)定:采用工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)27MHz 固態(tài)發(fā)生器,具有非常高的系統(tǒng)穩(wěn)定性;優(yōu)異離子傳輸系統(tǒng)設(shè)計(jì)即使在MS/MS模式下也具有檢測(cè)穩(wěn)定性。

l可靠:通過(guò) SEMI S2 認(rèn)證,多達(dá)十重安全防護(hù)配置,帶來(lái)全面可靠的安全防護(hù),保證儀器長(zhǎng)時(shí)間安全可靠運(yùn)行。

l強(qiáng)勁:全基體進(jìn)樣系統(tǒng)結(jié)合接口設(shè)計(jì)及加強(qiáng)離子傳輸系統(tǒng),帶來(lái)強(qiáng)大的基體耐受性,即使高基體直接進(jìn)樣也可有效降低信號(hào)漂移。

l易用:HiMass智能工作站,一鍵式,向?qū)?、模塊化設(shè)計(jì),界面簡(jiǎn)潔直觀,易學(xué)易用,極大提高工作效率。